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三氟化氮
简介
三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
| 分子量 | 71.0019 |
|---|---|
| 原始名称 | 三氟化氮 |
| 外文名 | nitrogen trifluoride |
| 相关实体 | 喷码设备 |
| 英文名 | nitrogen trifluoride |