Extra
外文名
英文名
光罩
简介
光罩(英文:reticle, mask):在制作ic的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制于晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。
| 中文名 | 光罩 |
|---|---|
| 原始名称 | 光罩 |
| 特点 | 铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆 |
| 精选上位词 | 原理 |
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