Extra
精选上位词
光刻技术
简介
集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。
随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、 x射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
| 中文名 | 光刻技术 |
|---|---|
| 原始名称 | 光刻技术 |
| 原理 | 光学- 化学反应原理等 |
| 品种 | 微细加工技术 |
| 外文名 | photolithography |
| 类别 | 微细加工技术 |
| 英文名 | photolithography |
相关实体