气相沉积

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简介

气相沉积技术 是利用气相中发生的物理、化学过程,在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术按照成膜机理,可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。

中文名 气相沉积
原始名称 气相沉积
外文名 chemical vapor deposition
英文名 chemical vapor deposition
Extra
  • cvd
  • 气相沉积
  • 上位词
  • 利用气相中发生的物理、化学过程
  • 物理、化学过程
  • 理学
  • 特点
  • 淀积温度低
  • 薄膜成份易控等
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  • 物理术语
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