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pvd
简介
pvd(physical vapor deposition)---物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。 pvd基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
| 上位词 | 理学 |
|---|---|
| 中文名 | 物理气相沉积 |
| 别名 | pvd |
| 原始名称 | PVD |
| 名称 | pvd |
| 品种 | 化工 |
| 外文名 | physical vapor deposition |
| 实体注释 | 物理 |
| 实质 | 用电弧放电使物质与气体发生电离 |
| 种类 | 化工 |
| 简称 | pvd |
| 绰号 | pvd |
| 缩写 | pvd |
| 英文名 | physical vapor deposition |