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简介

在真空环境下,通入适当的惰性气体作为媒介,靠惰性气体加速撞击靶材,使靶材表面原子被撞击出来,并在表面形成镀膜。

中文名	溅镀
别名	磁控溅镀
原始名称	溅镀
原理	靠惰性气体加速撞击靶材
外文名	sputtering
相关实体	镜面效果
英文名	sputtering

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