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刻蚀
简介
刻蚀,英文为etch,它是半导体制造工艺,微电子ic制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀,实际上狭义理解就是光刻腐蚀,先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理,然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。随着微制造工艺的发展,广义上来讲,刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称,成为微加工制造的一种普适叫法。
| 中文名 | 刻蚀 |
|---|---|
| 原始名称 | 刻蚀 |
| 外文名 | etch |
| 工艺 | 半导体制造工艺 |
| 相关实体 | 光刻 |
| 英文名 | etch |