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化学气相沉积
chemical vapor deposition简介
化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是iii-v、ii-iv、iv-vi族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。目前,化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。
| 中文名 | 化学气相沉积 |
|---|---|
| 原始名称 | 化学气相沉积 |
| 外文名 | chemical vapordeposition |
| 精选上位词 | 科学百科工程技术分类 |
| 精选别名 | chemical vapor deposition |
| 缩写 | cvd |
| 英文名 | chemical vapordeposition |
| 领域 | 化工 |
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