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光刻机
简介
光刻机(mask aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 mask alignment system.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺)；
在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
| 中文名 | 光刻机 |
|---|---|
| 原始名称 | 光刻机 |
| 外文名 | mask aligner |
| 精选上位词 | 产品 |
| 绰号 | 掩模对准曝光机 |
| 英文名 | mask aligner |
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