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光刻
microlithography photoetching简介
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
| 上位词 | 通过一系列生产步骤 |
|---|---|
| 中文名 | 光刻 |
| 原始名称 | 光刻 |
| 绰号 | microlithography |
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